ES-CN色譜柱產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
 

　　在進(jìn)行分析法開(kāi)發(fā)及有效性檢查過(guò)程中，對(duì)于色譜柱制造均一性的要求已經(jīng)越來(lái)越高。而Shim-pack VP-ODS正是為了滿足這一需求而開(kāi)發(fā)出來(lái)的產(chǎn)品。穩(wěn)定化二氧化硅基材的品質(zhì)，而在十八(烷)基的導(dǎo)入及惰性化方面，確立了具備較高再現(xiàn)性的表面修飾技術(shù)。可以滿足研究開(kāi)發(fā)部門(mén)、品質(zhì)管理部門(mén)的嚴(yán)格要求，可作為標(biāo)準(zhǔn)ODS色譜柱來(lái)使用。
 

　　ES-CN色譜柱通過(guò)最大效率地提高分辨率來(lái)改善分離和檢測(cè)。它們出色的重現(xiàn)性可保持分析和數(shù)據(jù)的完整性。它們還可以通過(guò)更快的分離時(shí)間，更高的樣品通量和出色的耐用性來(lái)降低分析成本并最大限度地提高實(shí)驗(yàn)室生產(chǎn)率。
 

　　使用本產(chǎn)品選擇指南可確保最佳色譜柱配置，并改進(jìn)各種LC平臺(tái)的色譜分析。將高效的核殼顆粒技術(shù)與多種表面化學(xué)組分結(jié)合在一起，使用戶能夠在各種應(yīng)用和具有挑戰(zhàn)性的分離中實(shí)現(xiàn)最佳分離度。產(chǎn)品還可確保一致的批次性能。
 

 

　　產(chǎn)品的特點(diǎn)：

 

　　憑借硅膠合成水平、*的化學(xué)鍵合和端基封尾技術(shù)，高超的勻漿填裝工藝，保證了色譜柱中的硅膠顆粒(4.6μm)有著球形表面和幾乎一致的顆粒大小，色譜柱在低壓的同時(shí)，柱效很高。
 

　　ES-CN色譜柱出現(xiàn)偏差的原因大至可分為3大類。一是二氧化硅基材的偏差，二是表面修飾時(shí)的偏差，三則是色譜柱填充的偏差。
 

　　ES-CN色譜柱可以針對(duì)這些偏差實(shí)施嚴(yán)格的管理，從而按規(guī)定的規(guī)格確保合格產(chǎn)品的產(chǎn)出。從方法開(kāi)發(fā)到品質(zhì)管理為止都得到了保證，從而可以獲得較高的色譜柱制造均一性。